製品紹介

概要

シリコン半導体、化学物半導体、光ファイバー等の製造装置炉内部品として使用される、SiCコートの専用黒鉛素材を提案いたします。

特徴

バラツキ

素材の面内バラツキが小さいことから、均一な温度分布が求められるエピタキシャル成長の分野への使用に適しています。

機能

均質で剥がれ難いコーティングができ、面内のバラツキも小さいことからより品質の高いウェハー製造が可能になります。

関連技術へのリンク

• パイロカーブ

• 高純度

• CVD-SiC