Übersicht
Materialien mit hoher Härte und Dichte, beständig (gegen Ionenstrahlen), mit geringem Partikelausstoß.
Eigenschaften
Geringe Abnutzung, geringer Partikelausstoß
Durch Beständigkeit gegen Ionenstrahlen und geringen Partikelausstoß geeignet für Komponenten von Ionenimplantern.
Hohe Reinheit
Verunreinigungen liegen unter 100 ppm, darüber hinaus, kann durch ein Reinigungsverfahren die Menge der Verunreinigungen auf unter 5 ppm reduziert werden.
Funktion
Geringe Abnutzung (Beständigkeit gegenüber Ionenstrahlen), geringe Partikelemission und hohe Reinheit machen dieses Material perfekt für den Einsatz in Ionenimplantern, wobei die Qualitätsausbeute der dotierten Wafer gesteigert werden kann.