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IBIDEN Fine Graphite Material

Ionenimplantation

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Übersicht

Materialien mit hoher Härte und Dichte, beständig (gegen Ionenstrahlen), mit geringem Partikelausstoß.

Eigenschaften

Geringe Abnutzung, geringer Partikelausstoß

Durch Beständigkeit gegen Ionenstrahlen und geringen Partikelausstoß geeignet für Komponenten von Ionenimplantern.

Hohe Reinheit

Verunreinigungen liegen unter 100 ppm, darüber hinaus, kann durch ein Reinigungsverfahren die Menge der Verunreinigungen auf unter 5 ppm reduziert werden.

Funktion

Geringe Abnutzung (Beständigkeit gegenüber Ionenstrahlen), geringe Partikelemission und hohe Reinheit machen dieses Material perfekt für den Einsatz in Ionenimplantern, wobei die Qualitätsausbeute der dotierten Wafer gesteigert werden kann.

Technisches Datenblatt

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